Vissa specialiserade tillämpningar kräver ultra hög ren argon där ens de minsta spår av föreningar kan orsaka problem. Inom halvledarindustrin används ultra hög ren argon för att odla silikeskristaller samt i etchningsprocesser. Eftersom renheten av argon är mycket kritisk för halvledare, får inga föreningar som påverkar prestanda och tillförlitligheten hos halvledarförstärkare införas. Inom analytisk kemi är hög ren argon också känt för sin användning som bärargason i gaschromatografi, där det behövs för att uppnå precisa och återkommande resultat. Hög ren argon produceras vanligtvis genom avancerade rengöringsmetoder som inkluderar kryobalansering, adsorptionsprocesser och andra riktade mot att ta bort föreningar såsom syre, kväve och även vattenånga.
×
EN
